TA2表面激光氮化处理的研究

rxin08

摘　要:采用DL-HL—T型5kWCO：快速横流激光器对TA2进行了激光气体氮化处理。采用光学显微镜、扫描电子显微镜、x射线衍射、能谱分析对激光氮化试样进行了微观组织、相组成分析；采用MH-3型显微硬度计和M283恒电位仪与M352测试分析软件对激光氮化试样进行了显微硬度、自腐蚀电位Ecorr和自腐蚀电流密度Icorr的测试与分析。研究结果表明：经过激光表面氮化处理，在TA2表面生成了以TiN为增强相的氮化区域。该区域由氮化层、热影响区和基体三部分构成，氮化层组织主要由TiN和α＇-Ti组成，厚大约50I．Lm，硬度比较均匀；热影响区分为两部分：靠近氮化层处为N在基体中的固溶体α＇-Ti，靠近基体处为相变产生的细小针状马氏体。氮化层显微硬度高达HV0．011652．1，而基体仅为HV0．01230。TA2激光气体氮化层的自腐蚀电位由基体的-210mV提高到-144mV，自腐蚀电流密度降低为TA2的1／10，提高了TA2的耐均匀腐蚀和局部腐蚀的性能。